化学机械研磨

彭洪修)
更新时间:2019-11-26 19:17 浏览:183 关闭窗口 打印此页

  磁性高分子微球是80年代中期才发展起来的一种免疫学和生物医学新技术,它涉及到材料科学、生物学以及免疫学等多个学科.简要概述了国内外磁性高分子微球的研究近况、性质及其应用.

  本发明公开了一种水基玻璃磨削液。这种水基玻璃磨削液包含:季铵盐表面活性剂、有机醇、缓蚀剂和水;不包 含研磨颗粒。这种水基玻璃磨削液具有优异的冷却、润滑、洗涤、防腐蚀等性能,对金刚石磨具有良好的化学修锐作用,可以明显提高磨削加工精度和磨具的...

  本发明公开了一种光刻胶清洗液,该清洗液为非水性的低蚀刻清洗液。其含有:醇胺、 3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑和助溶剂。这种光刻胶清洗液可以用于LED和半导体中光刻胶去除,同时对于基材基本没有攻击如金属铝等,更为特出 的是该体系具有较强的耐水性,拓宽...

  目前抽油要耗电一占油田总耗电量近三分之一,由于抽油机井电动机的功率因数低,无功功率增大,造成电能的极大浪费。为解决这一问题,开发并应用了抽油机微电脑控制箱,节能效果显著。

  摘要: 利用正交实验设计的数学方法进行设计,考察不同因素对微球粒径的影响,以制备出不同粒径的聚苯乙烯微球,主要考察的因素有:温度,引发剂浓度,单体浓度以及离子浓度,同时对其交互作用进行了研究,结果表明,4种因素对粒径影响的排序为:温度,引发剂浓度...

  用高分子材料作为载体的高分子微胶囊和纳米级胶囊药物制剂不仅能控制药物以一定的速度释放 ,而且还可以对生物体的生理指标变化作出相应的反馈 ,因而可以制成靶向药物释放体系。文章较全面地综述了高分子微胶囊药物的制备技术和应用。阐述了高分子微胶囊...

  光刻胶去除是集成电路制造的关键工艺之一。随着集成电路技术的发展,先后出现了铝钨金属连接、铜互联大马士革工艺,尤其是硬掩膜铜互联大马士革工艺的出现,对光刻胶去除工艺提出了极大的挑战。结合图形化工艺技术进展,溶剂类光刻胶去除剂、羟胺类光刻胶去...

  磁性高分子微球是将纳米磁性颗粒进行包裹的高分子微球,具有超顺磁性、悬浮稳定性好等优点,在生物医学、固定化酶、免疫测定等方面具有广泛的用途.该文采用活性膨胀法制备复合式磁性高分子微球,并对各影响因素进行了系统的研究.首先,利用无皂乳液聚合法制...

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  研究了聚苯乙烯微球的合成过程中 ,离子强度、聚合时间对粒径的影响及其稳定性。实验结果表明 :适当改变离子强度、聚合时间可以得到不同粒径的聚苯乙烯微球 ,且粒子稳定性较好

  摘要: 采用日本聚丙烯腈原丝及国产聚丙烯腈原丝,通过纤维强度、伸长率、线密度、纤维相对分子质量和溶液性能等常规分析,以及DSC、TG、IR分析,C、N、H元素分析,X射线和扫描电镜分析,找出日本原丝与为产原丝在强伸度、分子质量、地元素含量、结晶度及其...

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