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以及能对被研磨膜起化学反应的化学溶液组成 1. CMP是哪三个英文单字的缩写？ Chemical Mechanical Polishing (化学机械研磨) 2. CMP是哪家公司发明的？ CMP是IBM在八十年代发明的。 3.简述CMP的工作原理？ 化学机械研磨是把芯片放在旋转的研磨垫(pad)上，再加一定的压力， 用化学研磨液(slurry)来 研磨